3.4. Программное обеспечение

3.4.	Программное обеспечение
3.4.1.	Программное обеспечение, специально разработанное для разработки или производства оборудования, определенного в пунктах 3.1.1.2 - 3.1.2.7 или 3.2
3.4.2.	Программное обеспечение, специально разработанное для применения оборудования, определенного в пунктах 3.2.1.1 - 3.2.1.6 или 3.2.2
3.4.3.	Программное обеспечение для вычислительной литографии, специально разработанное для формирования рисунков на масках или промежуточных шаблонах, получаемых путем субмикронной ультрафиолетовой литографии
(п. 3.4.3 в ред. Указа Президента РФ от 19.02.2021 N 109) (см. текст в предыдущей редакции)
	Техническое примечание. Вычислительная литография - использование компьютерного моделирования для прогнозирования, корректировки, оптимизации и подтверждения качества формирования изображений литографического процесса с использованием различных шаблонов, процессов и состояний системы
(техническое примечание в ред. Указа Президента РФ от 19.02.2021 N 109) (см. текст в предыдущей редакции)
	Примечание. Исключено. - Указ Президента РФ от 19.02.2021 N 109
(см. текст в предыдущей редакции)
3.4.4.	Программное обеспечение, специально разработанное для разработки оборудования (систем), определенного в пункте 3.1.3
3.4.5.	Программное обеспечение, специально разработанное для восстановления нормальной работы микроЭВМ, микросхем микропроцессора или микроЭВМ в течение 1 мс после воздействия на них электромагнитными импульсами или электростатическими разрядами без прекращения выполняемых операций
(п. 3.4.5 введен Указом Президента РФ от 19.02.2021 N 109)

3.3. Материалы 3.5. Технология