|
Трудовые действия
|
Проведение контрольной очистки и активации поверхности подложки (рабочей поверхности объекта)
|
|
Проведение контроля операции мойки подложки (рабочей поверхности объекта)
|
|
Контроль качества подложки (рабочей поверхности объекта), на которую необходимо нанести наноструктурированное PVD-покрытие
|
|
Выдача рекомендаций операторам (наладчикам) для корректировки режимов работы оборудования на участке PVD-покрытий
|
|
Выборочный контроль подложки (рабочей поверхности объекта) на твердость
|
|
Контроль качества поверхности контакта PVD-покрытия с подложкой
|
|
Контроль качества поверхности объекта после нанесения наноструктурированного PVD-покрытия
|
|
Мониторинг соблюдения последовательности операций нанесения наноструктурированного PVD-покрытия
|
|
Необходимые умения
|
Применять методы контроля операций подготовки и нанесения наноструктурированного PVD-покрытия
|
|
Применять средства контроля операций подготовки и нанесения наноструктурированного PVD-покрытия
|
|
Применять статистические методы контроля - контрольные карты
|
|
Соблюдать правила контроля операций подготовки и нанесения наноструктурированного PVD-покрытия
|
|
Необходимые знания
|
Основы физических и химических методов очистки подложки (рабочей поверхности объекта), их преимущества и недостатки
|
|
Методы очистки подложки (рабочей поверхности объекта): механическое удаление частиц загрязнителя потоком жидкости или газа, растворение в воде, химическая реакция
|
|
Регламент подготовки подложки (рабочей поверхности объекта) к нанесению наноструктурированного PVD-покрытия
|
|
Условия нанесения наноструктурированных PVD-покрытий - зависимые и независимые переменные
|
|
Выборочный контроль объекта на твердость по Виккерсу или Роквеллу (до нанесения покрытия)
|
|
Входные факторы (условия) процессов нанесения покрытия: напряжение на объекте; ток дуги, мишени или накала катода; материал катода, мишени или анода; давление газа в камере; состав реакционного газа; расстояние между электродами в зависимости от вида и требований технологического процесса
|
|
Показатели достоверности и точности контроля операций нанесения наноструктурированных PVD-покрытий
|
|
Номенклатура диагностических параметров и их характеристика (номинальные, допускаемые значения, точки ввода, точки контроля) PVD-покрытий
|
|
Материалы, применяемые для формирования наноструктурированных PVD-покрытий, и требования, предъявляемые к ним
|
|
Классификация PVD-покрытий по составу (одноэлементные, многоэлементные, многокомпонентные, композиционные) и строению (однослойные и многослойные)
|
|
Правила эксплуатации установок для нанесения наноструктурированных PVD-покрытий
|
|
Требования системы экологического менеджмента и системы менеджмента производственной безопасности и здоровья
|
|
Другие характеристики
|
-
|