§ 12. Оператор вакуумно-напылительных процессов (5-й разряд)

§ 12. Оператор вакуумно-напылительных процессов

5-й разряд

Характеристика работ. Напыление различными способами (термическое испарение, катодное распыление, электронно-лучевое и магнетронное напыление) однослойных и многослойных пленочных микроструктур для изделий с субмикронными размерами или с повышенной степенью интеграции с выбором оптимальных режимов напыления в пределах допусков, указанных в технологической документации. Обслуживание установок с программным управлением. Наблюдение за режимами процесса. Работа с измерительной аппаратурой с целью регистрации и поддержания режимов осаждения пленок. Сравнительный контроль качества просветляющих пленок по эталону.

Должен знать: электрические и вакуумные схемы, способы проверки на точность различных моделей вакуумных напылительных установок; конструкцию обслуживаемого оборудования; правила определения режимов работы оборудования для получения металлических, резистивных пленок; правила настройки и регулирования контрольно-измерительных инструментов и приборов; электрофизические свойства взаимодействия полупроводник - металл, металл - металл; основы электротехники и порядок работы вакуумной техники.

Требуется среднее профессиональное образование.

Примеры работ

1. Диски для видиконов - двух-, трехслойное напыление.

2. Линзы из стекла К-8 оптической толщины лямбда/4 - нанесение одного слоя MgFe2 (просветление).

3. МДП-структуры - изготовление молибденового затвора.

4. Пластины C ч As - напыление Ag с подслоем Cr.

5. Пластины стеклянные - напыление маскирующих, кварцевых покрытий.

6. Пластины полупроводниковые (диодные матрицы, СВЧ - транзисторы, БИС, СБИС, ЗУ, стабилитроны) - одно- или двухслойное напыление различными способами.

7. Пленка полистирольная или стирофлексная, конденсаторная бумага - напыление различных металлов на вакуумной установке.

8. Пленки полупроводниковые и контактные площадки - напыление на монокристаллические подложки германия, кремния, арсенида галлия.

9. Подложки кварцевые - нанесение 15 слоев равной оптической толщины лямбда/4 (зеркало с коэффициентом отражения 99%).

10. Приборы квантовые - напыление семи-, одиннадцатислойных зеркал.